プラズマ装置・ソレノイドの製造｜株式会社エスクラフト

本製品は、平行平板型のプラズマ処理装置です。
コントロール・パネル上の操作のみでDP（ダイレクトプラズマ）モードとRIE（リアクティブイオンエッチング）モードの２つのプラズマモードを切り替えられ、BGAなど実装プロセスでのダイアタッチの接着性改善・封止性改善など、多様なプロセス用途に利用できます。

応用例
・プラスチックパッケージ、ハイブリッドＩＣなどの表面改質
・フォトレジストアッシング
・繊維や高分子材料などの表面改質

製品の特徴

容易なプラズマモード切替

ＲＩＥ（Reactive Ion Etching）⇔ＤＰ（Direct Plasma）がコントロールパネル上の操作のみで切り替え可能です。

高速追従性

小型の電力整合方式マッチャーを採用しており、プラズマ整合の高速化を実現しております。整合時間の短縮化により、プラズマ着火時における素子へのチャージアップダメージの低減を実現しております。

省フットプリント

クリーンルーム占有面積　　８８０（Ｗ）×８８０（Ｄ）
本体以外はＰＵＭＰのみの省スペース化を実現。

将来的な収束問題の解消

制御系にはシーケンサを使用しており、ＰＣのモデルチェンジ等にありがちな収束問題も解消出来ます。

多種多様なカスタマイズ性

基本的なプラットフォームを利用して御客様の様々な要求に応じた対応を致します。

試料棚

処理室内に試料棚を複数段装備しております。最大４段使用可能。

詳細仕様

仕 様
処理方式	平行平板プラズマ励起方式（ＤＰ／ＲＩＥ切替可）
処理室	アルミニウム（A5052）製
ステージ段数	標準3ステージ（オプション 増設1ステージ対応可）
チャンバー寸法	幅500×奥580×高500ｍｍ
ステージ寸法	幅340×奥420ｍｍ
ＲＦ電源	600Ｗ　13.56ＭＨｚ　オートチューニング
処理ガス	O2、Ar（オプション　1ライン増設可） マスフローコントローラによる流量制御
パージガス	N2（スローライン有）
処理ステップ	10レシピ（3ステップ）
真空ポンプ	ロータリーポンプ　1300L/min
本体寸法	幅880×奥880×高1600ｍｍ
本体重量	約400kg

■配管フロー図      ■外形寸法図